变革制造技术 开创未来视界
打造新型显示装备标杆企业
致力于新型显示制造“卡脖子”技术与核心装备的开发与应用

HPB

    基板尺寸:按要求定制

    工艺环境:CDA/N2

    清洁功能:真空抽气置换/N2吹扫(可选)

    热板载台加热温度:室温—250℃(可选)

    热板载台升温速率:≥5℃/min

    热板载台温度均性:2%

NEJ-PB200型喷印装备

    基板尺寸:≤200*200mm

    基板厚度:0.4-1.5mm

    运动精度:≤±5μm

    打印精度:≤±15μm

    墨滴体积:10pL(选配喷头)

    控制精度:±5%

NEJ-PR200型喷印装备

    基板尺寸:200mm*200mm

    基板厚度:0.4-1.5mm

    运动精度:≤±3μm

    打印精度:≤±10μm

    墨滴体积:10pL(选配喷头)

    墨滴体积控制:±5%

NEJ-PTG4.5型喷印装备

    基板尺寸:730*460mm

    基板厚度:0.4-1.5mm

    运动精度:≤±3μm

    打印精度:≤±10μm

    打印膜厚:4-16μm

    辅助设备:UV/清洗/TM可选配

NEJ-E/P200型喷印装备

    基板尺寸:200*200mm(可定制)

    基板厚度:0.2-1.5mm

    运动精度:≤±3μm

    打印精度:≤±10μm

    材料粘度:5-20cps, 1-20000cps

    墨滴体积控制:±5%

NEJ-PRG4.5型喷印装备

    基板尺寸:920*730mm

    基板厚度:0.4-1.5mm

    运动精度:≤±3μm

    打印精度:≤±10μm

    墨滴体积控制:±5%

    缺陷检出率:≥99%

NEJ-PTG6H型喷印装备

    基板尺寸:1500*925mm

    基板厚度:0.4-1.5mm

    运动精度:≤±3μm

    打印精度:≤±10μm

    墨滴体积:3.5/6 pL(可选配)

    打印膜厚:4-20μm

TM

    基板尺寸:按要求定制

    Robot精度:≤±0.5mm

    密封腔体泄漏率:≤0.05vol%/h

    水氧含量控制:≤1ppm

    温控精度:室温±1℃

    箱内洁净度控制:ISO3

NEJ-EB150型电流体喷印设备

    基板尺寸:150*150mm

    定位精度:≤±10μm

    重复精度:≤±5μm

    X/Y轴打印速度:50mm/s

    墨滴体积:可达fL级

    打印频率:500Hz

VCD

    基板尺寸:按要求定制

    密封腔体泄漏率:≤0.05vol%/h

    极限真空:2x10-5 Pa

    抽气速率:0-100mbar/s (可调)

    基板载台温度:0-60℃,±1℃(可定制)

    冷板温度:0-60℃,±1℃,(可定制)

公司介绍

        武汉国创科光电装备有限公司坐落于武汉·光谷,以国家“卡脖子”高端装备为使命,面向新型显示领域开发大面积、高效率、高精度OLED、QLED、MicroLED等喷印制造工艺、技术与成套装备。推动行业技术变革,打造新型显示高端装备标杆企业。

Wuhan National Innovation Technology Optoelectronics Equipment Co., Ltd. is located in Wuhan Optical Valley, with the mission of solving the  stranglehold problem of high-end equipment. It aims to develop large-area, high-efficiency, high-precision OLED, QLED, MicroLED and other jet printing manufacturing processes, technologies and equipments in the novel display field. Our goal is to promote the technological transformation of the industry and build a benchmark enterprise for high-end novel display manufacturing equipments.

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