HPB
基板尺寸：按要求定制
工艺环境：CDA/N2
清洁功能：真空抽气置换/N2吹扫（可选）
热板载台加热温度：室温—250℃（可选）
热板载台升温速率：≥5℃/min
热板载台温度均性：2%
NEJ-PB200型喷印装备
基板尺寸：≤200*200mm
基板厚度：0.4-1.5mm
运动精度：≤±5μm
打印精度：≤±15μm
墨滴体积：10pL（选配喷头）
控制精度：±5%
NEJ-PR200型喷印装备
基板尺寸：200mm*200mm
基板厚度：0.4-1.5mm
运动精度：≤±3μm
打印精度：≤±10μm
墨滴体积：10pL（选配喷头）
墨滴体积控制：±5%
NEJ-E/P200型喷印装备
基板尺寸：200*200mm（可定制）
基板厚度：0.2-1.5mm
运动精度：≤±3μm
打印精度：≤±10μm
材料粘度：5-20cps， 1-20000cps
墨滴体积控制：±5％
NEJ-PRG4.5型喷印装备
基板尺寸：920*730mm
基板厚度：0.4-1.5mm
运动精度：≤±3μm
打印精度：≤±10μm
墨滴体积控制：±5％
缺陷检出率：≥99％
NEJ-PTG4.5型喷印装备
基板尺寸：730*460mm
基板厚度：0.4-1.5mm
运动精度：≤±3μm
打印精度：≤±10μm
打印膜厚：4-16μm
辅助设备：UV/清洗/TM可选配
TM
基板尺寸：按要求定制
Robot精度：≤±0.5mm
密封腔体泄漏率：≤0.05vol%/h
水氧含量控制：≤1ppm
温控精度：室温±1℃
箱内洁净度控制：ISO3
NEJ-PTG6H型喷印装备
基板尺寸：1500*925mm
基板厚度：0.4-1.5mm
运动精度：≤±3μm
打印精度：≤±10μm
墨滴体积：3.5/6 pL（可选配）
打印膜厚：4-20μm
VCD
基板尺寸：按要求定制
密封腔体泄漏率：≤0.05vol%/h
极限真空：2x10-5 Pa
抽气速率：0-100mbar/s （可调）
基板载台温度：0-60℃，±1℃（可定制）
冷板温度：0-60℃，±1℃，（可定制）
NEJ-EB150型电流体喷印设备
基板尺寸：150*150mm
定位精度：≤±10μm
重复精度：≤±5μm
X/Y轴打印速度：50mm/s
墨滴体积：可达fL级
打印频率：500Hz
公司介绍
武汉国创科光电装备有限公司坐落于武汉·光谷，以国家“卡脖子”高端装备为使命，面向新型显示领域开发大面积、高效率、高精度OLED、QLED、MicroLED等喷印制造工艺、技术与成套装备。推动行业技术变革，打造新型显示高端装备标杆企业。
Wuhan National Innovation Technology Optoelectronics Equipment Co., Ltd. is located in Wuhan Optical Valley, with the mission of solving the stranglehold problem of high-end equipment. It aims to develop large-area, high-efficiency, high-precision OLED, QLED, MicroLED and other jet printing manufacturing processes, technologies and equipments in the novel display field. Our goal is to promote the technological transformation of the industry and build a benchmark enterprise for high-end novel display manufacturing equipments.
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0 家
国内喷墨印刷装备领军企业
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0 +万元
注册资本
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0 m2+
占地面积
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0 年+
技术沉淀
