Technology

产品技术

VCD装备

          国创科VCD 装备为光刻胶、钙钛矿、有机显示等材料提供真空干燥固化解决方案。公司已完成 大、中、小多代VCD 产品的开发。通过结构合理设计，流场优化，提高干燥腔室的抽速与均匀性，载台与冷凝板温度均匀可控。自主开发的控制系统，功能开放，多段真空、抽速、保压时间可调，便于用户调整工艺参数，支持工艺过程参数监控测量、保存导出，有效为工艺开发提供支撑。

电话：027-63495836
邮箱：sales@whnite.com
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技术参数 装备技术优势 更多产品

技术参数

  • ●基板尺寸：可定制
  • ●密封腔体泄漏率：≤0.05vol%/h
  • ●极限真空：1.5x10-4 Pa及以上
  • ●抽气速率：0~100mbar/s （可调）
  • ●基板载台温度：0~60℃，±1℃（可定制）
  • ●冷板温度：0~60℃，±1℃（可定制）

产品应用

  • 流场流向

  • 流场均匀性