变革制造技术 开创未来视界
打造新型显示装备标杆企业
致力于新型显示制造“卡脖子”技术与核心装备的开发与应用

E/P产品线

    基板尺寸:可定制

    墨滴体积:电流体fL级/压电:3.5/6/10pL(可选)

    运动精度:≤±3μm

    墨滴体积控制:±5%

    E喷印模块最小膜厚:50nm

    材料粘度:E喷印模块1-20000cps

PR量产型装备

    基板尺寸:可定制

    墨滴体积:2.4/3.5/6/13pL(可选配)

    打印精度:≤±7.5μm

    运动精度:≤±2μm

    墨滴体积控制:±5%

    洁净度等级:lSO3

AOI产品线

    基板尺寸:可定制

    缺陷检测尺寸:3μm(可定制)

    复检相机:5~20倍可选配

    运动精度:≤±3μm

    重复定位精度:≤±1μm

    对焦及复检测:支持自动对焦及自动复检功能

EP产品线

    基板尺寸:可定制

    墨滴体积:fL级

    定位精度:≤±3μm

    重定位精度:≤±1μm

    打印频率:1000Hz

    高压供电:0-±5000V

UV产品线

    基板尺寸:可定制

    UV光强度:1.5J/cm2,10%-100%(可调)

    UV光强均一度:≥95%

    UV扫描速度:250mm/s(可调)

    UV光源波长:395nm(可选配)

    水氧含量控制:≤1ppm

LM产品线

    基板尺寸:可定制

    贴合方式:真空贴合

    贴合精度:±3μm(可定制)

    压力精度:±0.01Mpa

    水氧含量控制:≤1ppm(可选)

    箱内洁净度控制:ISO3(可选)

PTE中试型装备

    基板尺寸:可定制

    墨滴体积:3.5/6/13pL,可选配

    打印精度:≤±10μm

    运动精度:≤±3μm

    膜厚范围:1~20μm

    膜厚均一性:≥95%

EB产品线

    基板尺寸:可定制

    墨滴体积:fL级

    定位精度:≤±10μm

    重定位精度:≤±5μm

    X/Y轴打印速度:50mm/s

    打印频率:500Hz

EH产品线

    基板尺寸:可定制

    墨滴体积:fL级

    定位精度:≤±5μm

    重定位精度:≤±3μm

    打印频率:1000Hz

    高压供电:0-±5000V

EF产品线

    基板尺寸:可定制

    点/线尺寸:1~20μm

    点/线厚度:0.5~5μm

    打印精度:≤±2μm

    运动精度:≤±1μm

    喷嘴对位精度:≤1μm

公司介绍

        武汉国创科光电装备有限公司坐落于武汉·光谷,以国家“卡脖子”高端装备为使命,面向新型显示领域开发大面积、高效率、高精度OLED、QLED、MicroLED等喷印制造工艺、技术与成套装备。推动行业技术变革,打造新型显示高端装备标杆企业。

Wuhan National Innovation Technology Optoelectronics Equipment Co., Ltd. is located in Wuhan Optical Valley, with the mission of solving the  stranglehold problem of high-end equipment. It aims to develop large-area, high-efficiency, high-precision OLED, QLED, MicroLED and other jet printing manufacturing processes, technologies and equipments in the novel display field. Our goal is to promote the technological transformation of the industry and build a benchmark enterprise for high-end novel display manufacturing equipments.

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