PR量产型装备
基板尺寸：可定制
墨滴体积：2.4/3.5/6/13pL(可选配)
打印精度：≤±7.5μm
运动精度：≤±2μm
墨滴体积控制：±5％
洁净度等级：lSO3
E/P 型装备
基板尺寸：可定制
墨滴体积：电流体fL级/压电:3.5/6/10pL(可选配)
运动精度：≤±3μm
墨滴体积控制：±5%
E喷印模块最小膜厚：50nm
材料粘度：E喷印模块1～20000cps
TM装备
基板尺寸：可定制
Robot精度：≤+0.5mm（可选配）
密封腔体泄漏率：≤0.05vol%/h
水氧含量控制：≤1ppm
温控精度：室温±1℃（可定制）
箱内洁净度控制：ISO3
VCD装备
基板尺寸：可定制
密封腔体泄漏率：≤0.05vol%/h
极限真空：1.5x10-4 Pa及以上
抽气速率：0~100mbar/s （可调）
基板载台温度：0~60℃，±1℃（可定制）
冷板温度：0~60℃，±1℃（可定制）
UV装备
基板尺寸：可定制
UV光强度：1.5J/cm2，10%-100%（可调）
UV光强均一度：≥95%
UV扫描速度：250mm/s（可调）
UV光源波长：395nm（可选配）
水氧含量控制：≤1ppm
EB 型装备
基板尺寸：可定制
墨滴体积：fL
定位精度：≤±10μm
重复定位精度：≤±5μm
X/Y轴打印速度：150mm/s
打印频率：500Hz
EH型装备
基板尺寸：可定制
墨滴体积：fL级
定位精度：≤±5μm
重复定位精度：≤±3μm
打印频率：1000Hz
高压供电：0~±5000V
AOI装备
基板尺寸：OLED\ LCD全尺寸面板
缺陷检测尺寸：对应一个子像素的图像可见缺陷检测分类
过漏检指标：漏检≤0.1%;过检≤5%
可应对产品分辨率：4K及以上
复核分层功能：区分产品像素层/Panel/POL/CG等层不良
自动化功能：自动WD ( 工作距离 ) 、自动对焦 、自动曝光 、画面质量分析
EF产品线
基板尺寸：可定制
点/线尺寸：1~20μm
点/线厚度：0.5~5μm
打印精度：≤±2μm
运动精度：≤±1μm
喷嘴对位精度：≤1μm
EP 型装备
基板尺寸：可定制
墨滴体积：fL级
定位精度：≤±1μm
重复定位精度：≤±0.5μm
打印频率：7000Hz
高压供电：0~±5000V
公司介绍
武汉国创科光电装备有限公司坐落于武汉·光谷，以国家“卡脖子”高端装备为使命，面向新型显示领域开发大面积、高效率、高精度OLED、QLED、MicroLED等喷印制造工艺、技术与成套装备。推动行业技术变革，打造新型显示高端装备标杆企业。
Wuhan National Innovation Technology Optoelectronics Equipment Co., Ltd. is located in Wuhan Optical Valley, with the mission of solving the stranglehold problem of high-end equipment. It aims to develop large-area, high-efficiency, high-precision OLED, QLED, MicroLED and other jet printing manufacturing processes, technologies and equipments in the novel display field. Our goal is to promote the technological transformation of the industry and build a benchmark enterprise for high-end novel display manufacturing equipments.
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0 家
国内喷墨印刷装备领军企业
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0 +万元
注册资本
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0 m2+
占地面积
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0 年+
技术沉淀
