E/P 型装备

      国创科NEJ-E/P装备是为显示器件结构制造开发的多功能复合装备，同时配置了PZT与EHD喷印系统，既可完成显示功能层喷印又可以完成高分辨率微纳结构叠层或超薄膜层制备，可实现更复杂结构规划与制造，对喷印材料具有更广的适应性。

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PB型装备

       国创科NEJ-PB产品为小尺寸基础型喷印装备，具备完整的膜层/像素结构打印功能，主要适用于喷印材料工艺的研发。设备配置多组喷头模组，可手动更换以满足多种材料的快速切换，或多层模层的快速制备。VCD/UV/HPB等辅助模块可选配，以满足工艺、器件开发的需求。

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ES型装备

         国创科NEJ-ES 型装备采用电流体雾化技术，通过高压电场引导高速射流尖端突破瑞利极限，产生fL级雾滴，可沉积≥50nm 厚的均匀致密薄膜，主要适用于高粘材料/超薄膜层的高效制备。可搭载阵列化喷头，满足量产需求。在微纳光学，尤其是 AR&VR  的超薄膜层的解决方案中具有巨大的应用价值。

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EM型装备

      国创科NEJ-EM喷印装备搭载了多功能阵列化电流体点喷以及雾化喷头和高分辨率单喷嘴喷头，可大幅提高喷印效率；同时也用于高分辨率结构制备。其具有封闭的打印氛围控制系统，为打印制程提供良好的稳定基础。可选配固化模块、上下料模块，形成完整的工艺解决方案。

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EC型装备

          国创科NEJ-EC电流体喷印装备适用于曲面结构打印，结合电流体动力学技术，配置五轴平台，能够实现高分辨率的微曲面等结构图案打印。通过配置高速视觉系统、高精度多自由度运动平台、精密供墨系统等功能模块。并配置高精度定位视觉和多倍观测相机，平台重复运动精度提升至亚微米级，系统提升至专业级微纳图案打印能力。

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EP 型装备

       国创科NEJ-EP 型为专业级电流体喷印装备，主要配置高精度轴运动控制系统和微纳运动平台、 亚微米级定位观测系统，以实现电流体高精度点喷和近场直写工艺。特别适用于如MLA 等超高分辨率阵列微结构的制备和开发，并可进行电流体雾化工艺的开发，实现亚微米级膜厚的成型制备。根据不同客户要求，可加载曲面打印模块，实现曲面打印。

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EH型装备

       国创科NEJ-EH型装备是高精度电流体喷印装备，主要配置高精度轴运动控制系统、精密定位和观测系统，具有完整的电流体点喷、纺丝、雾化工艺功能，具有微米级的定位精度，适用于高分辨率微纳结构的制备和开发。适用于玻璃基、硅基、PC基等各类刚性和柔性基板，并可根据不同客户的基板尺寸要求进行定制。

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EB 型装备

      国创科NEJ-EB 型装备是桌面型电流体喷印装备，结构紧凑，占用空间小，特别适用于科研教学、 研究机构等常规实验室环境。配置有电流体点喷、纺丝、雾化工艺功能，并支持矢量图、位图等快速导入解析功能。适配材料粘度广，可快速进行新材料打印验证、工艺器件验证等应用。

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VCD装备

          国创科VCD 装备为光刻胶、钙钛矿、有机显示等材料提供真空干燥固化解决方案。公司已完成 大、中、小多代VCD 产品的开发。通过结构合理设计，流场优化，提高干燥腔室的抽速与均匀性，载台与冷凝板温度均匀可控。自主开发的控制系统，功能开放，多段真空、抽速、保压时间可调，便于用户调整工艺参数，支持工艺过程参数监控测量、保存导出，有效为工艺开发提供支撑。

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UV装备

         国创科UV装备提供完整的光固化解决方案。公司已完成大、中、小多代UV 产品的开发。中大尺寸 UV 产品可配置高均匀气浮支撑流平技术，提高大尺寸基板上液膜流平均匀性，避免 pin  mura产生。小尺寸UV产品可集成于打印装备内，实现跟随固化或打印后固化。自主开发的控制系统，功能开放，扫描速度、固化光强可调，便于用户调置工艺参数。支持工艺过程参数监控、保存导出，有效为工艺开发提供支撑。

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HPB装备

       HPB产品线为国创科研发的热固化系列装备，可满足大、中、小尺寸基板均匀热固的需求。结构设计合理，易于使用与维护。载台加热方式优化，提高了载台温度均匀性，减少了载台变形，保证产品热固效果。内置多点温度测量系统，实时监测工艺温度。自主开发的控制系统，功能开放，支持多段温度曲线设置，升温速度可调，便于用户调整工艺参数。

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TM装备

         国创科TM 装备为基板提供完整的物流转移方案。并可提供氮气等工艺氛围环境。腔体结构、流场经过优化设计，确保腔内的压力、温度稳定；层流气流稳定，保证内部工艺氛围稳定洁净。密封腔体可配合机械手及产线定制开发与集成，最大程度满足使用与维护的需求。

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